石英晶体薄膜厚度控制器
3.使用单个传感器或多个传感器监控源材料,以提供准确的源分布监控。 4,高亮度,VGA有源点阵彩色液晶显示器C可显示英文或中文。
5,易于设置和操作,有“快速设置”。菜单,6个上下文相关按钮,以及方便的参数设置旋钮。
6.窗口程序用于开发,测试和下载过程,并将仪器数据记录到PC中以进行过程分析和质量控制。 7.精确的过程控制,特别是对于低沉积速率,在10读数/秒时分辨率为±0.03 Hz,在0至50°C的温度范围内具有±2 ppm的频率稳定性。
◆频率分辨率:0.03 Hz,6.0 MHz◆质量分辨率:0.375 ng / cm2◆感应芯片频率:2.5,3,5,6,9.5,10 MHz◆薄膜厚度显示:0.000~999.9 K& Aring; ◆成膜速度:00.0~999逆时针(0~9.99μm/ min)◆层数:1~999 *图形显示:256×64 LCD,CCFL背景照明◆全配置◆一台MDC360C主机,振荡器和线缆一组,一个探头,五个晶圆◆主机尺寸:16.98×3.47×9.355(单位:英寸),前面板宽度18.98英寸石英晶体薄膜厚度控制器,用于多源,多转,多材料或多工艺系统薄膜沉积速率和薄膜厚度。石英晶体薄膜厚度控制器可满足最复杂,最苛刻和特殊应用的需求。
它专注于过程控制,逻辑功能,程序和膜存储容量,过程数据管理,尤其是沉积速率和薄膜厚度控制。
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